A The Motley Fool egyik elemzője egy álláshirdetésre alapozza teóriáját. Ez elsőre furcsán hangozhat, ugyanakkor nem példa nélküli, hogy egy ehhez hasonló forrás leplezze le nagyvállalatok terveit. A kiírás az Intel új, az indiai Bangalore városában található fejlesztőközpontjába keres szakembert a 10 nanométer alatti (tehát a 7 nanométeres) processzormagok fejlesztéséhez, 2022-re, valamint az azt követő időszakra. Ez az Intel új stratégiájának középső, architekturális frissítés lépcsőjét jelentheti, amit a gyártástechnológia váltás előz meg.
A spekulációt a rövidtávú stratégia is alátámasztja. A Kaby Lake processzorok a PAO utolsó, optimalizációs lépcsőjét képviselik, a termékek első hullámát pedig épp a napokban jelentette be az Intel, a többi processzor jövő év első negyedévében érkezik. A három fázisú stratégia ezzel újraindul, a 10 nanométeres gyártástechnológiát elsőként alkalmazó Cannonlake processzorok érkezése pedig 2017 utolsó, illetve 2018 első negyedévére tehető. Ezeket az új, vagy számottevően frissített mikroarchitektúrát bemutató Icelake követheti nagyjából egy évvel később, azaz 2018 utolsó, és/vagy 2019 első negyedévében. A harmadik lépcsőn álló optimalizációt majd a Tigerlake feladata lesz, várhatóan ugyancsak körülbelül egy évvel később, legkorábban 2019 utolsó, vagy 2020 első negyedévének környékén. Az aktuális tervek szerint csak egy évvel ezután, tehát 2020 végén, 2021 elején jelenhetnek meg az első 7 nanométeres processzorok, melyek továbbfejlesztéséhez keres munkaerőt a szóban forgó kiírás, 2022-re.
Amennyiben a stratégia beigazolódik, úgy lassan szinte borítékolható lesz, hogy az Intel elveszíti a félvezetőipar történelmének kezdete óta fenntartott gyártástechnológia vezető szerepét, ami így még ha csak ideiglenesen is, de valamelyik bérgyártó ölébe hullhat, aki elsősorban a TSMC vagy a Samsungnak lehet. Előbbi cég már 2018-ban be akarja indítani a 7 nanométeres lapkák gyártását, míg a dél-koreai cég 2019-re ígéri saját fejlesztését, mely a vállalat korábbi közleménye szerint már a sok éve ígért EUV technológiát is alkalmazni fogja. Az Intel ezt az opciót tovább csúsztathatja, Mark Bohr, az Intel gyártástechnológiai fejlesztésekért felelős vezetője pár hete elmondta, hogy jelen állás szerint még 7 nanométeren sem alkalmazzák az extrém ultraibolya fénnyel dolgozó levilágítási eljárást.
Mindez ugyanakkor még nem jelenti biztosra, hogy a két bérgyártó túlszárnyalja az Intelt, ugyanis a 7 nanométeres jelöléssel kis túlzással jóformán bármit eladhatnak a cégek, nincs kőbe vésve, hogy milyen paraméterekkel kell rendelkezzen az adott technológia. Többek között ennek köszönhető, hogy az Intel 14 nanométeres technológiája körülbelül 30 százalékkal nagyobb tranzisztorsűrűséget kínál a Samsung hasonló jelölésű fejlesztésénél. Egyszóval a meccs még akkor sem lefutott, ha végül az összes feltételezés és ígéret beigazolódik, sok múlik majd az egyes gyártástechnológiák gyakorlati képességein.
