FőoldalGyártósorVékonyfilmes metrológiai rendszer 28 nm-re és az alá
2013. július 02., kedd ::

Vékonyfilmes metrológiai rendszer 28 nm-re és az alá

A Rudolph Technologies bejelentette S3000SX típusnevű, vékonyfilmes metrológiai rendszerét, amelyet a félvezetőgyártásban használt, áttetsző filmekhez fejlesztettek ki a 28 nm és az alatti csíkszélességű technológiák számára. Az S3000 termékcsalád legújabb tagja a Rudolph saját fejlesztésű, fókuszált sugaras ellipszometriai (FBE), valamint az új fejlesztésű, kisterületi mérési optikai (SSMO) technológiáit alkalmazza

Az S3000SX ezzel képes a félvezető szeleteken egy- és többrétegű filmek vastagságának mérésére akár 30×30 µm méretű gyártási egységekig. Továbbá, a S3000SX rendszer továbbá ápolja a Rudolph korábban megkezdett hagyományát, amely szerint rugalmas és moduláris rendszereket gyártanak: az új metrológiai képességeket a vásárlók részletesen egyedi igényeikre szabhatják a gyártástechnológia, teljesítmény, költségek stb. tekintetében.

A 2x és 1x nm-es csíkszélesség bevezetése az elektronikai és félvezetőipari gyártástechnológiákban új anyagok alkalmazását, vékonyabb filmrétegek használatát, valamint a gyors, pontos és kifinomult metrológiai megoldásokat követelik meg. Az akár 30×30 µm méretű gyártási egységek vizsgálatára is képes, egyedi metrológiai megoldásokat használó S3000SX rendszer optimális kombinációját nyújtja a teljesítménynek és befektetési megtérülésnek.

A Rudolph saját fejlesztésű FBE technológiája három, különböző hullámhosszú lézerforrással működik, és piacvezető minőséggel és gyorsasággal méri a filmrétegek vastagságát, komplikált diszperziós modellek nélkül. A lézerek stabilitása és pontossága könnyű átjárhatóságot biztosít a rendszerek között, a hosszú élettartam pedig garantálja a minimális üzemen kívül töltött időt. Az S3000SX-ben található, 405 nm-es kisebb hullámhosszú forrás és a speciálisan kialakított mérési optika lehetővé teszi az akár 30×30 µm méretű gyártási egységek vizsgálatát egyetlen hullámhosszal is, amely az SOI, vékonyfilm és SiGe technológiáknál nagy előnyt jelent. A rendszerhez elérhető metrológiai bővítmények között megtalálható a mély-UV (190 nm) reflektometria, félvezetőszelet mechanikai feszültségének és görbületének mérése, valamint a következő generációt idéző, levegőben lebegő molekuláris szennyeződés vezérlése.

A Rudolph Technologies honlapja

Tudomány / Alapkutatás

tudomany

CAD/CAM

cad

Járműelektronika

jarmuelektronika

Rendezvények / Kiállítások

Mostanában nincsenek események
Nincs megjeleníthető esemény